12月22日消息，刻機長期以來，意想用于醫學EUV光刻技術一直被主要用于打造最強大的途竟邏輯與存儲芯片。

不過比利時微電子研究中心（IMEC）近日首次成功利用ASML的生物EUV光刻設備，在300毫米晶圓上實現了固態納米孔的刻機晶圓級制造。

這項進展被ASML公關負責人譽為“意想不到且出色的意想用于醫學生物醫學應用”。

所謂納米孔，途竟是生物直徑僅有幾納米的微小孔洞，其精細程度約為人類頭發絲的刻機萬分之一，在生物傳感領域，意想用于醫學納米孔的途竟作用如同“分子檢查站”。

當離子電流流過孔洞時，生物通過其中的刻機分子（如病毒、蛋白質或 DNA）會對電流產生獨特的意想用于醫學信號，科學家可以根據這些獨特的途竟電信號，高靈敏度地辨別分子的尺寸、結構和電荷。

雖然納米孔在基因組學和蛋白質組學中具有巨大潛力，但過往受限于制造變異性大和集成困難，始終無法實現大規模生產。

imec的突破在于利用EUV技術確保了孔徑的高度一致性，目前孔徑已精確縮小至約10納米，未來更有望通過工藝改進突破5納米。

更重要的是，這種方法與CMOS兼容，意味著生物傳感器可以像生產芯片一樣在300毫米晶圓上大規模制造。

imec研發項目經理Ashesh Ray Chaudhuri表示，將原本用于芯片制造的EUV基礎設施應用于生命科學，已經為高通量生物傳感器陣列打開了大門。